2dsemiconductors kish-graphite說明書(shu)
Kish 石墨已在實驗室使用熔融鐵碳化物冷卻工藝合成，以實現研究級 Kish 石墨材料。通常 Kish 石墨是不鏽鋼工藝的天然副產(chan) 品，通常從(cong) 冷卻的鐵表麵收集小石墨片。這個(ge) 過程的目的不是生產(chan) 石墨，而是專(zhuan) 注於(yu) 生產(chan) 含碳雜質的鐵。因此，基什石墨的純度通常為(wei) 75%。
我們(men) 開發了鐵箔冷卻工藝，通過半導體(ti) 級甲烷和乙烷混合物將碳溶解到厚鐵箔中並仔細冷卻以產(chan) 生高質量的 kish 石墨片。這些晶體(ti) 的尺寸從(cong) 毫米到 5-6 毫米不等，具有高純度（99.99% 或更高）和結晶度（的 vdW 結構，與(yu) HOPG 相比易於(yu) 剝落）。
實驗室生長的 Kish 石墨的典型特征
| 樣本量 | 單晶尺寸範圍從 0.1 毫米到 3-5 毫米。每個訂單包含一個*裝滿的 2 毫升瓶，足以長期研究消費 |
| 特性 | 半金屬/狄拉克金屬 |
| 剝落特性 | 很容易 |
| 生產方式 | 脫碳技術 |
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